磁控溅射真空镀膜机导致不均的因素哪些？专业从事这方面工作的朋友其实还是比较的了解的，它主要可以分为以下几个因素就是：真空状态、磁场、亚气。
磁场是正交运作的，但你要将磁场强度做到一定均匀是不可能的，一般磁场强的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，为什么呢？
东莞市仁睿电子科技有限公司主营加工：光学镀膜、光学玻璃镀膜、光学镜片镀膜、真空光学镀膜、光学真空镀膜、染色加工、塑料染色加工、杯子渐变加工、塑料渐变加工、亚克力面板、视窗镜片、PC手机壳。
在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀，在控制技术上，更多的应用先进的计算机技术和微电子技术，使得光学镀膜设备更具性和智能自动化。
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